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   卧式真空烧结炉(氮化硅、氮化硅、氮化铝)


该设备可用于陶瓷胚体和制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结等,也可用于陶瓷粉体材料的制备。具有卧式和立式两种结构,可选配脱脂系统。


技术特征

采用顶立科技专属超高温、大电流引电技术,能在高温条件下长时间稳定使用;

采用特殊的高温红外测量技术,控温准确,误差小;

配置专属密封马弗,产品产生的硅蒸汽等副产物对加热器及绝缘材料等的污染小;

配备高效尾气处理装置,环境友好,易清理;

该设备可选择配置脱脂系统,实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理。


碳化硅氮化硅烧结炉产品规格


数\型号

HVSF-050511

HVSF-060612

HVSF-100612

HVSF-100825

HVSF-100840

工作区尺寸W×H×L(mm)

500×500×1100

600×600×1200

1000×600×1200

1000×800×2500

1000×800×4000

最高温度(℃)

1900/2400

1900/2400

1900/2400

1900/2400

1900/2400

温度均匀性(℃)

±5

±5

±10

±10

±10

极限真空度(Pa)

1-100

1-100

1-100

1-100

1-100

压升率(Pa/h)

0.67

0.67

0.67

0.67

0.67

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

 


碳材料热工装备

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